Horno de deposición química de vapor
Nuestros hornos de deposición de vapor químico cuentan con una gran variedad de aplicaciones en distintos sectores y destacan por su excelente rendimiento, máxima fiabilidad, alta estabilidad, larga vida útil y precios realmente asequibles.
Este horno industrial es el equipo ideal para la fabricación de TiC, SiC, SiO2 y nitruro de silicio (Si3N4) de alta calidad para su aplicación en diferentes tipos de substratos. Este horno eléctrico experimental se ofrece con una temperatura de deposición que oscila entre 100 y 1.800 º C.
Nuestro horno de deposición se distingue por su precisión en la fabricación de dieléctricos, semiconductores y películas metálicas, como SiO2, Si3N4, Si:H amorfo, Si heteromórfico, SiC, W, Ti-Si, GaAs, GaSb, etc.
Este horno eléctrico de altas temperaturas ofrece un excelente rendimiento en diferentes tipos de industria, a saber, producción de maquinaria, metalurgia, óptica y fabricación de semiconductores.
Estructura
1. Este horno de deposición de vapor químico está equipado con una chimenea de vacío de acero inoxidable, un sistema de bombeo turbomolecular, una fuente de alimentación, un sistema de control de temperatura, un transmisor, un dispositivo de asistencia de refrigeración por agua y un sistema de ajuste de presión y de escape independiente.
2. Este horno industrial destaca por su estructura compacta y su excelente diseño que garantizan una operación sencilla y un rápido bombeo de vacío.
3. Nuestros hornos eléctricos están disponibles con un sistema de control manual o con un control automático IPC.
4. Los procesos de bombeo de vacío y de revestido se realizan en un solo ciclo de producción.
| Características | Unidad | Modelo | ||||
| Potencia nominal | kW | 21 | 30 | 45 | 60 | 75 |
| Voltaje nominal | V | 380 | 380 | 380 | 380 | 380 |
| Temperatura máxima | °C | 1800 | 1800 | 1800 | 1800 | 1800 |
| Temperatura de funcionamiento | °C | ≤ 1700 | ≤ 1700 | ≤ 1700 | ≤ 1700 | ≤ 1700 |
| Grados de vacío | 6.67Pa | 6.67Pa | 6.67Pa | 6.67Pa | 6.67Pa | |
| Tamaño de la plataforma | En pulgadas | Ф4 | Ф8 | Ф12 | Ф16 | Ф20 |
| Velocidad de rotación de la plataforma | 0-20RPM | 0-20RPM | 0-20RPM | 0-20RPM | 0-20RPM | |
| Material de aislamiento térmico | Grafito | Grafito | Grafito | Grafito | Grafito | |
| Componentes de calentamiento | Grafito | Grafito | Grafito | Grafito | Grafito | |
| Tasa de aumento de temperatura | °C/min | ≤ 25 | ≤ 25 | ≤ 25 | ≤ 25 | ≤ 25 |
| Precisión de la temperatura | °C | ±1 | ±1 | ±1 | ±1 | ±1 |
| Configuración estándar | 1. Medidor de flujo de tres canales: nitrógeno, hidrógeno, metano y argón. | |||||
| 2. Sistema de alarga del circuito de gas (hidrógeno y metano), alarma de altas temperaturas y alarma de escasez de agua. | ||||||
| Opciones | 1. Equipo de manipulación para el tubo de gas | |||||
| 2. Cilindro de gas y válvula de reducción de presión | ||||||
| 3. Sistema de refrigeración | ||||||
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Nombres relacionados
CVD Equipment | Vapor Deposition Furnace | Chemical Vapor Deposition
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